東京大学 先端科学技術研究センター高機能材料分野/工学系研究科マテリル工学専攻
ペロブスカイト型半導体蒸着装置1
４つの蒸着セルを備え、ガスソースの成長にも対応してペロブスカイト型半導体を蒸着します。
ペロブスカイト型半導体蒸着装置2
４つの蒸着セルを備え、ペロブスカイト型半導体を蒸着します。
GaAs分子線ビームエピタキシー装置
様々な元素（Ga, As, Al, P, Ge）のセルを持ち、様々な構造・組成の薄膜を成長します。
ホットプレート1
温度を0.1度の精度で制御し、ゆっくりと結晶を成長させます。
ホットプレート2
ビーズバスで温度を制御し、結晶を成長させます。
ドライオーブン1
試料の熱アニーリングなどをおこないます。
ドライオーブン2
試料の熱アニーリングなどをおこないます。
スピンコーター
フォトレジストをスピンコートします。
紫外線表面処理装置
紫外線で基板の表面をきれいにします。
ヒーター炉
加熱昇華させ純度を高めた原料を得ます。
原子間力顕微鏡(AFM)
薄膜の微細な構造を観察します。
レーザー励起発光分光
様々な波長のレーザーで試料を励起し最低温20度まででその発光を観察します。
屈折率評価システム
全反射を利用して屈折率を高精度に評価します。
低温4端子システム
真空・低温で4端子測定を行います。
ACホール測定システム
ACホール測定を行い、移動度を高精度に評価します。
THz実験システム
100fsファイバーレーザーを光源に、テラヘルツ波発生・テラヘルツ分光の実験を行います。
顕微透過・反射分光システム
顕微で試料の透過率・反射率を400-2000nmで測定します。
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