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実験装置
東京大学先端科学技術研究センターでは、連携活動を推進しています。 中学生・高校生・学部生向けの見学ツアーもリクエストに応じて年数回行っており、ご好評いただいています。 実験装置についてご興味がありましたらまずはお気軽に助教(五月女)までご連絡下さい。実験装置
ペロブスカイト型半導体蒸着装置1
4つの蒸着セルを備え、ガスソースの成長にも対応してペロブスカイト型半導体を蒸着します。ペロブスカイト型半導体蒸着装置2
4つの蒸着セルを備え、ペロブスカイト型半導体を蒸着します。 本装置を使った実験結果は、下記の論文などで使用されています:ドラフト
溶液から結晶を成長させます。ホットプレート1
温度を0.1度の精度で制御し、ゆっくりと結晶を成長させます。ホットプレート2
ビーズバスで温度を制御し、結晶を成長させます。研磨機
結晶を研磨します。ドライオーブン1
試料の熱アニーリングなどをおこないます。ドライオーブン2
試料の熱アニーリングなどをおこないます。スピンコーター
フォトレジストをスピンコートします。真空蒸着装置(金属用)
金属を熱し、真空蒸着します。露光装置
レジストにHg灯で露光します。紫外線表面処理装置
紫外線で基板の表面をきれいにします。電子天秤
原料・試料の重さを量ります。ヒーター炉
加熱昇華させ純度を高めた原料を得ます。金属顕微鏡
最大100倍に拡大して観察します。実体顕微鏡
電極付け等の作業をしやすくします。原子間力顕微鏡(AFM)
薄膜の微細な構造を観察します。レーザー励起発光分光
様々な波長のレーザーで試料を励起しその発光を観察します。最低温20度まで試料を冷却しながら発光スペクトルを0.1nmの分解能で測定可能です。本装置を使った実験結果は、下記の論文などで使用されています:屈折率評価システム
全反射を利用して屈折率を高精度に評価します。低温4端子システム
真空・低温で4端子測定を行います。交流ホール測定システム
ACホール測定を行い、高抵抗のペロブスカイト型半導体試料でも高精度に移動度を評価します。市販品がほとんどない先端機器です。THz実験システム
100fsファイバーレーザーを光源に、テラヘルツ波発生・テラヘルツ分光の実験を行います。785nmファイバーレーザーを使用したシステム、1560nm 100fsレーザーを光源としたシステムの2系統があります。 本装置を使った実験結果は、下記の論文などで使用されています:顕微透過・反射分光システム
顕微で試料の透過率・反射率を400-2000nmで測定します。